离开以后歌词

作词 : 陈少琪
作曲 : 李偲菘
编曲 : David Garfield
制作人 : David Garfield
近日像每样话题总不适合你
近日夜深相聚
飘起一抹冷漠空气
在这天
是你事无大小多么生气
谁人亦可知你将别离
落寞地躺在睡床试试抱紧你
但是目光躲避
令我可感到你在喘气
没说出
亦领会谁在撩动你
抛开苦痛去解脱自己
让你那些冷却热情另有生机
离开我以后我会习惯自卑
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
接近你
oh
伴着但我在预期你会说舍弃
问事实怎躲避
在倒数将要每日想你
若这刻
若最后无力留下你
将消失勇气释放自己
就算某天我吻别人亦当亲你
离开我以后我会习惯自卑
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
离开我以后我会习惯自卑（接近你）
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
接近你
oh
钢琴 : Randy Waldman
电吉他 : Michael Landau
OP : Music & Melody Publishing
贝斯 : Jimmy Johnson
混音师 : Mick Guzauski
混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong)
录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read
和声 :  Dorcas Kwok/金培达/郑中基
录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera
鼓 : Carlos Vega
键盘 : David Garfield
SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd.
录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong)